电镀是将电能转化为物理化学能(电结晶)的过程，因此，电镀加工需要电源装置。电镀过程的特点是需要持续定向流动的电流，因此，典型的电镀过程需要的是直流电源。
与其他工业技术相比，电镀技术的设备不仅很简单，而且有很大的变通性。以电源为例，只要是能够提供直流电的装置，就可以拿来做电镀电源，从电池到交直流发电机组、从硒堆到硅整流器、从可控硅到脉冲电源等，都是电镀可用的电源。其功率大小既可以由被镀产品的表面积来定，也可以用现有的电源来定每槽可镀的产品多少
当然，正式的电镀加工都会采用比较可靠的硅整流装置，并且主要的指标是电流值的大小和可调范凰，电压则由0～15V随电流变化而变动。根据功率大小，可选用单相或三相输入。票能防潮和散热。工业用电镀电源一般从l
至于电子电镀，由于对电镀层的功能性有一定要求，对电镀电源的要求也就比较高。几乎所有用于电镀加工的新型电源都在电子电镀中最先采用。比如高频开关电源、周期换向电源、脉冲电源等。对于贵金属电镀，已经普遍采用脉冲电源，在使镀层结晶细小、平整光滑的同时，还可以节约贵金属的用量。因为脉冲电镀可以在使结晶细化的同时降低镀层孔隙率，采用较薄的镀层就能达到原来较厚镀层的功能。
现在，电镀电源正向小型化和多功能化发展，除了高抗蚀性能和数字显示外，对工作通电量(安培·小时计)、镀覆时间(时间继电器、报警器)等都可以组合在一起，从而适应电镀技术发展的要求。图1中是常用的电镀整流电源示例，图1(a)是可控硅柜式机，图1(b)是台式高频开关电源。
图1常用电镀整流电源示例
图2 电镀槽及基本附件示意
