【专利号(申请号)】CN01812907.2
【公开(公告)号】CN1443231
【申请人(专利权)】花王株式会社
【申请日期】2001-6-5 0:00:00
【公开(公告)日】2003-9-17 0:00:00
本发明提供了被抛光物的表面上不产生表面缺陷、提高抛光速度、且降低表面粗糙度的抛光液组合物和被抛光基板的抛光方法。[1]抛光液组合物，它含有水、磨料、中间氧化铝、碳原子数在4个以上且没有OH基的多元羧酸或其盐，且中间氧化铝的含量相对于100重量份的磨料为1～90重量份；和[2]被抛光基板的抛光方法，它是在抛光时抛光液组合物是前述[1]抛光液组合物的条件下对被抛光基板进行抛光。
【主权项】
权利要求书 1.抛光液组合物，它含有水、磨料、中间氧化铝、碳原子数在4个以上且没有OH基的多元羧酸或其盐，且中间氧化铝的含量相对于100重量份的磨料为1～90重量份。
