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电镀自焊接三维微电极阵列方法.pdf

放大字体  缩小字体 发布日期:2012-03-06  浏览次数:335   关注:加关注
核心提示:电镀自焊接三维微电极阵列方法

【专利号(申请号)】200810034328.X

【公开(公告)号】CN101240435

【申请人(专利权)】复旦大学

【申请日期】2008-3-6 0:00:00

【公开(公告)日】2008-8-13 0:00:00

【专利简介】

 

       本发明属于微电极制备技术领域,具体涉及电镀自焊接三维微电极的方法。其步骤是把微电极穿过金属微孔,并固定在插槽中;对微金属孔进行电镀,使金属孔逐渐变小,直到与穿过微金属孔的微电极结合在一起,从而实现了微电极与微金属孔的自焊接。这种焊接方法可以轻松实现金属微电极阵列与微金属孔的立体焊接,效果很好,并且方法简单,成本也较低。

   电镀自焊接三维微电极阵列方法.pdf
 

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