该项目提出了用化学镀在GaAs表面制备Cu膜的工艺，利用自催化效应、络合剂的作用和镀Cu过程中Cu的还原反应对镀液酸碱度敏感的特性，解决了镀Cu过程中使Cu沉积只发生在GaAs表面、防止相关化学反应中非Cu沉积物在GaAs表面沉积和控制适当的Cu沉积速率三个难题，使镀制的Cu膜纯度高、厚度均匀、附着性好。该成果达国际先进水平。
完成单位：河北工业大学
联系电话：(022)26504026
邮政编码：300130
成果类别：应用技术
成果水平：国际先进
限制使用：国内
成果密级：非密
鉴定日期：20001228
应用行业：电线 电缆 光缆及电工器材制造
鉴定部门：河北省科技厅
转让方式：其他
分类号：TM24
