该设备是用磁控溅射方法镀制幕墙玻璃的专用设备，立式批量装载每批1.65×2.5(米)的玻璃六块，一次通过可镀多层化合物膜或(和)金属膜，年产量12万米<'2>。该设备采用90年代最新磁控源技术，配多支旋靶，不对称磁控源，因而大大提高靶材利用率，改善镀膜质量，采用这种新型源在国内外同类设备中尚属先进。至今进口设备还仍是平面磁控源。该设备价格低廉，但能镀出类似进口设备的镀膜玻璃，所以性能价格比好。它在真空排气、反应气体引入、基片装载走动等方面均有特色。该设备有较好的市场，用户可在当年收回投资。
完成单位：深圳亨达莱真空技术工程公司
邮政编码：518001
成果类别：应用技术
成果水平：国内领先
限制使用：国内
成果密级：非密
鉴定日期：19931226
应用行业：印刷 制药 日化生产专用设备制造
转让方式：培训
分类号：TQ171.685
