该设备可在金属或非金属的表面镀制硬质增寿腊、装饰腊、合金膜或多层腊，可广泛用于刀刃、模具、钟表、首饰、灯具、建筑五金及装饰用彩色钢板、眼镜架、电子产品、医疗器械、仪器仪表等领域。该设备在真空条件下采用物理气相沉积技术，在基片上镀制氮化钛及其它薄膜。它将多弧离子镀技术、柱形靶及磁控油射离子镀技术有机结合在一起，可单独使用或同时使用，制取含有连续过渡层的各种膜层。该设备制造简单，使用方便，运行成本低无污染，经济效益高。其双真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大节省投资。该设备主要性能指标如下：镀膜室极限真空度1.3×10〈’-3〉Pa;抽真空时间(从大气抽至6.67×10〈’-3〉Pa)≤20min;压升率1Pa/h;工作周期1h;弧电流60￣90A;弧电压18￣21V;磁控油射靶功率10￣36kW。该设备已在国内外出售几十台套，取得了良好的社会经济效益。
完成单位：中国航天工业总公司第五研究院五一一研究所天星公司 中国航天工业总公司第五研究院第五一一研究所
联系电话：(010)68378136
邮政编码：100029
成果类别：应用技术
成果水平：国内领先
限制使用：国内
成果密级：非密
鉴定日期：19930921
应用行业：电子器件制造
分类号：TN305.8
