该成果适用于红外光学系统锗、硅光学另件作增透膜，它采用离子镀技术镀制硫化锌薄膜，从而提高了硫化锌薄膜的耐磨性和抗潮性、即提高了锗硅光学另件对恶劣环境的适用性。镀制这种增透膜的锗硅光学另件的透光性能与用普通热蒸发法一致，耐磨性能提高一倍，抗潮性能提高8倍以上。
完成单位：电子工业部第十一研究所
成果类别：应用技术
限制使用：国内
成果密级：非密
鉴定日期：19850000
应用行业：基础化学原料制造
鉴定部门：电子部第十一所
分类号：TQ132.41
关键词：耐磨性能 光学增透膜 硫化锌薄膜 硫化锌 硫化物
