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真空连续镀膜在家电产品上的实际应用

放大字体  缩小字体 发布日期:2015-03-06  来源:中国电镀网  浏览次数:3448   关注:加关注
核心提示:真空连续镀膜在家电产品上的实际应用周朝军,李双月四川长虹电器股份有限公司工程技术中心深圳分部(广东深

真空连续镀膜在家电产品上的实际应用

周朝军,李双月

四川长虹电器股份有限公司工程技术中心深圳分部(广东深圳518107)

【摘要】真空镀膜主要是装饰出具有金属质感,同时有展现出多彩的颜色效果,丰富了电子产品的外观,也注入了金属的元素。任何材料皆可实现,尤其可以使塑料通过这环保工艺而达到金属质感效果,增加其使用寿命。

关键词:真空连续镀膜;异型面镀膜;导电;非导;金属化

中图分类号:TQ320.66文献标识码:B

1·引言

家电产品的外观金属装饰采用真金属成本不断升高,且金属零件整体后加工处理较难;其外观颜色效果较单一,对外观设计具有一定的局限性,无法满足部分消费者的个性化需求。真空连续镀膜工艺能让金属以外的任何材料都能装饰成金属一样质感和外观效果,而且其外观还可以叠加其它工艺从而丰富外观,个性化外观。

真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术,是表面工程技术领域的重要组成部分。表面表现的特点有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、特殊防水、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能,达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发、理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。

2·真空连续镀膜原理

目前所涉及到的真空连续镀膜即为磁控溅射,其工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移,其运动轨迹近似于一条摆线。随着碰撞次数的增加,二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶表面,并在电场E的作用下最终沉积在基片上。粒子在靶中经历复杂的散射过程,和靶原子碰撞,把部分动量传给靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成级联过程。如图1所示。

3·真空连续镀膜工艺技术及实际应用

3.1真空连续镀膜工艺技术的优势

目前真空连续镀膜工艺技术应用优势很明显,有如下方面:

(1)工艺简单,主要靠设备能力:使基材表面一次工艺即可达到金属效果,如需要特殊测试的,则需要实际情况再附加工序王成,与湿法镀比较其工序减少很多,设备也只需在一个里面完成,而湿法镀需要在多个空间完成,并且需要很多辅助设备(烘烤、风干)协助完成。

(2)节约清洁水:真空连续镀膜工艺除了附属设备冰水机循环用水外,其它工序都不需要水,而湿法镀每个工序均需要水为介质才能实现金属化工艺。

(3)节省金属或其他原材料:真空连续镀膜原理是把整颗金属原子纳米级化,然后有序覆盖在基材表面上,而湿法镀是金属原子结合在基材表面,其金属利用率相当低,并且相当部分随着水而浪费。

(4)可获得用湿法镀难以得到的膜层:湿法镀的膜层均导电,对信号有屏蔽效果,而真空连续镀膜层可做成导电和不导电两种功能,可根据具体产品来选择其工艺参数和材料。

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