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电镀自焊接三维微电极阵列方法

放大字体  缩小字体 发布日期:2015-04-09  来源:中国电镀网  浏览次数:721   关注:加关注
核心提示:申请号:200810034328.X名称:电镀自焊接三维微电极阵列方法公开(公告)号:CN101240435公开(公告)日:2008.

申请号:200810034328.X

名称:电镀自焊接三维微电极阵列方法

公开(公告)号:CN101240435

公开(公告)日:2008.08.13

主分类号:C25D2/00(2006.01)I

申请(专利权)人:复旦大学

地址:200433上海市邯郸路220号

发明(设计)人:吕尊实;周嘉;高安;纪新明;黄宜平

专利代理机构:上海正旦专利代理有限公司

代理人:陆飞;盛志范

摘要

本发明属于微电极制备技术领域,具体涉及电镀自焊接三维微电极的方法。其步骤是把微电极穿过金属微孔,并固定在插槽中;对微金属孔进行电镀,使金属孔逐渐变小,直到与穿过微金属孔的微电极结合在一起,从而实现了微电极与微金属孔的自焊接。这种焊接方法可以轻松实现金属微电极阵列与微金属孔的立体焊接,效果很好,并且方法简单,成本也较低。

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关键词: 电镀 金属
 
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