硬铬添加剂

1.阴极电流效率高，可达22-28%，传统工艺只有13%左右；

2.镀层硬度高达HV900-1200；

3.镀层微裂纹可达400-800条/cm；

4.镀层亮度高有镜面效果且外观平滑，细致细致，厚度均匀，不易产生疱瘤现象；

5.镀液不含氟化物，工件低电流密度区无腐蚀现象，对阳极的浸蚀类似传统镀铬；

6.镀液维护容易，操作简单。

7.镀层可使用高电流密度，可达90安培/平方分米。

二、设备：

1.铁槽内衬PVC板，槽边应有抽风设备；

2.阳极建议采用含锡7-15%的铅锡合金，使其导电性能好；

3.整流器输出电压可达9-15V为宜，纹波系数《5%以下；

4.温度控制采用热交换器和冷却蛇形钛管；

5.有条件的地方可采用不锈钢泵循环过滤，使温度和各种成分分布均匀。

三、镀液组成和操作条件：

四、镀液配制和工艺转化：

1.新配液用2/3体积去离子水溶解所需优质铬酐；

2.加入计算好的硬铬添加剂和所需试剂硫酸，充分搅匀并加入离子水调节至所需液面；

3.加热至规定温度；

4.加入适量的铬雾抑制剂电解2-4小时试镀；

5.传统镀铬液及各类含催化剂镀液的转化需要得到本公司认可方可进行。

五、槽液维护和补给：

1.槽液补充按每千安小时消耗进行补充，可以配成补充液进行，补充液按铬酐450g/L，硬铬添加剂20ml/L，搅匀后每千安小时补充350ml。也可以按每千安小时补充铬酐160g左右和硬铬添加剂6-8ml同时补入或每100Kg铬酐添加硬铬添加剂4L左右；

2.镀液需定期检测调整，使其处于最佳工作状态，镀液中三价铬及铁杂质等过多时会降低镀液的导电性能，厚的镀层会产生粗糙，一般情况下总杂质含量不能超过7.5g/L；

3.不主张长时间的阳极刻蚀处理。

六、沉积速度参考数据：

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