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一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺.pdf

放大字体  缩小字体 发布日期:2011-06-14  浏览次数:389   关注:加关注
核心提示:一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺.pdf

【专利号(申请号)】201010207485.3

【公开(公告)号】CN101844793A

【申请人(专利权)】昆山市千灯三废净化有限公司

【申请日期】2010-6-24 0:00:00

【公开(公告)日】2010-9-29 0:00:00

本发明的主要内容是以线路板酸性氯化铜或者硝酸铜或者硫酸铜蚀刻废液和液体氢氧化钠或者氢氧化钾为主要原料,合成的粗品氧化铜经微波干燥、粉碎、水洗、超声波洗涤、微波再次干燥及粉碎工艺,制得含量达99%以上的氧化铜,在电镀液中能够快速溶解,即30秒以内完全溶解,并且有较低的杂质含量,本发明工艺具有生产成本低,工艺简单,生产过程中对环境污染小,生产出的氧化铜活性高等优点。

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