【简介】
射流电沉积是近年来发展起来的一种电沉积新工艺，具有普通电镀所不具备的一些优点。利用二维移动平台系统进行射流电沉积，研究了瓦特镍镀液的喷射速度、温度以及阴阳极间距等因素对射流电沉积的影响。研究结果表明，当镀液喷射速度为0．3 m／s，槽电压为20 V，阴阳极之间距离为17 mm时，采用该系统可在金属试样上快速获得预先设定的图形镀层，镀层分布均匀，与基体的结合力良好。
用射流电沉积进行局部快速电镀的工艺研究.pdf
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