【简介】
摘 要：在硫酸盐一氯化物溶液体系中采用电沉积法制得了光亮Ni—Fe软磁合金箔，研究了n(Ni2+)／n(Fe2+)摩尔比，电流密度，镀液pH，镀液温度对电沉积Ni-Fe合金箔的铁含量的影响规律，确定了最佳工艺条件。验证性实验结果表明，在最佳工艺条件下制备的Ni-Fe合金箔是纳米晶合金，其Ni,Fe含量分别为80.4％(质量)和19.6％(质量)。这种合金箔外观平整、致密，具有明显的层状结构，其饱和磁通密度(M)为94.23emu／g，剩余磁通密度(M1)为4.33emu／g，矫顽力(Hc)为5.08oe。
1 前 言
软磁合金薄膜材料及其制备技术已成为21世纪材料科学与工程领域中的研究热点。电子元器件的发展趋势是高频、节能和小型化，对磁性材料的要求是同时具有较高的饱和磁感应强度和较低的损耗。制备适合上述要求的材料在制备工艺上需要减薄材料的厚度。目前，制备纳米软磁合金薄膜的方法分别有高频溅射、离子束溅射、分子束外延等物理气相沉积(PVD)及金属有机物化学气相沉积(MOCVD)、机械轧制和单辊超急冷法。快淬工艺对设备精度要求过高，其它方法不适于大规模的工业生产。近几年，电沉积技术以其在低温下操作，避免了高温时的扩散；可以任意控制沉积电位或电流密度从而控制薄膜厚度及结构；适用范围广，工艺简单，价格低廉等优势逐渐得了人们的青睐。
Ni—Fe合金箔是一种良好的软糍材料，磁饱和强度大，矫顽力小，具有较强的耐蚀性能，大量应用于电子计算机记忆装置上，因此受到许多科技工作者的广泛关注，并开展了许多Ni—Fe合金电沉积研究工作。
法国学者Jean—Morie Quemper等人研究了电沉积Ni—Fe合金层的工艺认为，合金的沉积速度与电流密度成直线关系，所得到的镀层最低矫顽力达到28A／m
