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化学镀工艺对Co-B功能膜沉积速率与结构的影响.pdf

放大字体  缩小字体 发布日期:2008-10-15  浏览次数:303   关注:加关注
核心提示:化学镀工艺对Co-B功能膜沉积速率与结构的影响.pdf

【简介】

以硫酸钴为主盐、硼氢化钠为还原剂制备了Co-B合金功能膜。主盐及还原剂的质量浓度增大都会加快沉积速率,但当两者超过一定值时,沉积速率反而下降。pH的增大和温度的升高也会加快沉积速率,而配位剂(酒石酸钠)质量浓度的增大,则会降低沉积速率。x射线衍射实验结果表明,化学镀Co-B合金在镀态下是非晶态。温度升高、主盐质量浓度增大及配位剂质量浓度减小都使镀层有形成晶态的趋势.原子力显微镜(AFM)照片显示:镀层表面由球状突起颗粒构成,颗粒尺寸为0.6—2μm。

化学镀工艺对Co-B功能膜沉积速率与结构的影响.pdf
 

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