【简介】
尝试了一种低成本的三维微电极阵列微加工的新方法。玻璃划片形成的柱状阵列，经掩膜腐蚀后形成阳模板，再利用PDMS的微复制技术形成阴模板。利用阴模板进行电镀，可以得到三维微电极阵列。制作的铜电极阵列高度约180µm，为制作更长的神经微电极阵列打下了基础。
三维神经微电极阵列新制作技术研究.pdf
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