摘 要:针对等离子体诊断及空间环境探测等领域对软X射线透射光栅的需要,采用全息光刻和微电镀技术制作了自支撑软X射线金透射光栅。在基底与光刻胶之间增加减反膜层以降低高反射基底引起的驻波效应对掩模槽形的影响,使用全息光刻技术获得了侧壁陡直的光栅掩模。然后,在掩模顶部镀保护层并使用反应离子刻蚀获得电镀掩模,通过改变保护层厚度来调节电镀掩模的占宽比。最后,利用微电镀技术沉积金,成功制作了线条密度为3 450gr/mm的自支撑透射光栅,光栅周期约为290nm,占宽比为0.55,金吸收体为500nm,光栅尺寸达到10mm×15mm。在国家同步辐射装置上,测得在5～12nm软X射线波段其＋1级透射衍射效率约为5%。[著者文摘]
