摘 要:研究了一种可用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺。分析了微小面积电镀时出现边缘效应的问题,提出了增加牺牲结构的方法提高沉积速率并降低电镀边缘效应。通过脉冲微电镀实验,讨论了电流对电镀边缘效应的影响,同时分析了影响镀层表面质量的因素,得出了一组具有参考价值的电镀参数,电镀出了长620μm、宽500μm、厚2μm的微反射镜表面结构,经测量计算,该条件下,镍的生长速度约为0.1μm/m in,表面平均粗糙度约为4.376nm。[著者文摘]
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