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金属镍-碳化硅纳米复合电镀工艺研究

放大字体  缩小字体 发布日期:2012-05-10  浏览次数:490   关注:加关注
核心提示:金属镍-碳化硅纳米复合电镀工艺研究

摘 要:采用复合电镀技术在炭素结构钢板的表面上制备高硬度的Ni-SiC纳米复合镀层,研究镍-碳化硅纳米复合电镀的工艺条件。结果表明,当阴极电流密度为2.56A/dm^2,镀液中纳米碳化硅粉的质量浓度为20g/L,镀液的pH值为5.0,温度为50℃时,镀层生长良好,均匀细致平滑,镀层的显微硬度可达到950HV0.2,远高于普通纯镍镀层的硬度。[著者文摘]

金属镍-碳化硅纳米复合电镀工艺研究.pdf
 

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