【简介】
[关键词]CS型添加剂;镀铬
[中图分类号] TQI53.1
[文献标识码] B
[文章编号] 100l一1560(2002)06—0053—02
我厂需镀铬的产品种类多.且镀件多为长管状多孑L件及形状复杂的凹凸件和各娄小型汽缸体，多年来一直沿用普通镀铬工艺，生产效率低，能耗大，正品率较低：为解决这一问题，经试验筛选，我们确定采用具有 三低一高”.即温度低、浓度低、电流密度低和电流效率高，且分散力和深镀能力好的cs型添加剂镀铬工艺 但在使用之初，由于经验不足，又倾向于追求“三低一高 ，结果各种问题不断出现，镀液和镀层牲能很不理想，经过一段时间的探索，终于找出了行之有救的控制方法。
l 镀铬工艺参数
一般cs型添加剂镀铬工艺参数为：铬酐50～180 g/L，硫酸0 3～1.1g/L，铬酐：硫酸100：0.40～0 7.三价铬0～4 g/L，CS-1添加剂l～2 g/L.温度l5—70℃ ，电流密度4～35 A/dm2 ，阳极：铅锡台金(含锡10% 一15%)，S阳：S阴=3.4：1。
2 对镀铬的影响与控制
2.1 铬酐浓度
型添加剂镀铬要求CrO3浓度一般在50～180 g/L范围内：我们在小槽试验中按其中限配制.效果好，但投人生产后运行时间不长，便故障额频，主要表现为镀液眭能不稳定.硫酸根控制范围窄.操作条件苛刻，槽液分析调整频繁，给生产带来不便，镀液深镀能力较低，工件深凹处及孑L缘易‘露黄”、边缘效应大等 经分折.其主要原因是：(1)生产批量大且零件形状复杂，材料多样(主要为铜、铝、碳钢、不锈钢、锌合金);(2J配制及补加镀液时使用了自来水，水质硬度高，Ca2+、Mg2+等金属离子和Cl-含量高。这样便出现了镀液损耗大.铬酐消耗快，杂质离子带人多在铬酐浓度较低时，镀液对杂质离子的容忍性变差的结果：经调整，我们将CrO3浓度控制在170～ 210 g/L.这样，尽管CrO3 浓度高于原工艺规范.电流效率也略有下降，但大大降低了杂质的影响，为镀液深镀能力的提高及温度的适当降低提供了保障，操作条件变宽，为生产也 造了一十稳定的环境。
2.2 硫酸根浓度
在CS型镀铬液中，硫酸既是一种导电介质和阳授去极化剂，又是必要的催化剂。但其催化作用不是其绝对含量，而是与铬酐浓度之比有关，当CrO3 ：H2SO4>0.9时.9暖一含量再增多，镀层光亮尚可，但镀液深镀能力变差.有孔隙及凹处难以沉积上铬层，有时还从低电流区开始首先出现一层很厚的可擦掉的棕黄色膜，而
不发生铬层沉积和氧气析出，只有c一 还原成c一 ;当CrO3 ：H2SO4<0 3后，随s暗一含量的进一步减小，镀渡分散力下降，沉积速度和阴极电流效率降低，镀件高电流区易烧焦发黑，无镀层部位易出现浅色、蓝彩色膜：故SO42-的控制是该工艺成败的关键 在实际应用中，硫酸含量以CrO3 ：H2SO4=100：0 6～0 8为宜，并做到加料时将SO42-控制在下限100：0 6，在生产过程中随着CrO3的消耗，当SO42-含量到上限时，加CrO3调整镀液即可，这样可避免加BaCO3除掉多余的s畦的过程 同时生产中防止SO42-从其他途径带人镀液并加强镀镍后的清洗质量。在生产过程中应经常化验SO42-的含量，以将其含量控制在最佳范围。
