摘 要:使用无限微元法对霍尔槽阴极初级电流分布进行了理论探讨，推导出霍尔槽阴极初级电流分布公式为：Ｄｋ＝Ｉｍ（Ａ＋Ｂｌｇ（Ｌｓｉｎθ＋α）），公式所得结果能正确解释电镀生产中的一些因素对镀层质量的影响，并对非直流电镀具有一定的指导意义。
摘 要:使用无限微元法对霍尔槽阴极初级电流分布进行了理论探讨，推导出霍尔槽阴极初级电流分布公式为：Ｄｋ＝Ｉｍ（Ａ＋Ｂｌｇ（Ｌｓｉｎθ＋α）），公式所得结果能正确解释电镀生产中的一些因素对镀层质量的影响，并对非直流电镀具有一定的指导意义。
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