摘 要:简单介绍了新开发的ＣＨ钝化工艺及其特点，用恒电量技术对比测试了ＣＨ钝化工艺形成的经膜和常规钝和化膜，ＣＨ钝化膜的Ｒｐ、Ｒｆ值大，Ｃｄ、Ｃｆ值小；再应用循环伏安法在－１．０２－－１．６８Ｖ范围进行测试，发现ＣＨ钝化膜的循环伏安图经１０次循环后仍与第一次的一样。两种测试说明了ＣＨ钝化膜常规钝化的耐蚀性高。两种电化学测试的结果与其它方法的结果的一致。
镀锌钝化膜耐蚀性能的研究.pdf
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