摘 要:HN625高耐蚀化学镀镍用于计算机薄膜硬磁盘批量研制，镀层含磷量大于12％（wt),低应力且为压应力，无孔，表面粗糙度Ra<0.015μm，镀层经250℃加热1h后，振动试样磁场计测试结果，剩磁量REM＜0．1emu。具有合格的非磁性热稳定性能。
摘 要:HN625高耐蚀化学镀镍用于计算机薄膜硬磁盘批量研制，镀层含磷量大于12％（wt),低应力且为压应力，无孔，表面粗糙度Ra<0.015μm，镀层经250℃加热1h后，振动试样磁场计测试结果，剩磁量REM＜0．1emu。具有合格的非磁性热稳定性能。
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