摘 要:论述了薄膜微波集成电路中一种新的电路制作技术－图形电镀技术的工艺及其在生产中的应用。并就应用中出现的一些问题及其解决方法作了进一步的探讨。运用该技术，我们制作了膜厚〉４μｍ，线宽和间距为１０μｍ的导体图形以及ＶＣＯ、移相器、放大器等许多超宽带微波器件。
摘 要:论述了薄膜微波集成电路中一种新的电路制作技术－图形电镀技术的工艺及其在生产中的应用。并就应用中出现的一些问题及其解决方法作了进一步的探讨。运用该技术，我们制作了膜厚〉４μｍ，线宽和间距为１０μｍ的导体图形以及ＶＣＯ、移相器、放大器等许多超宽带微波器件。
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