摘要：利用改进的化学镀铜技术制备了纳米铜膜,并采用热氧化技术对纳米铜膜直接氧化处理,在未经刻蚀的玻璃表面制备了纳米氧化铜膜。采用XRD,FTIR和XPS技术研究了铜膜氧化过程及晶体结构,计算了晶粒尺度。使用FESEM对不同厚度的氧化铜膜表面进行了观察。结果表明：在350℃加热1h条件下,纳米铜膜可直接被氧化成纳米氧化铜膜;获得的氧化铜膜具有纳一纳结构(即双重纳米结构)。氧化铜膜厚由54 nm增加到113 nm时,相应的平均晶粒尺度从12 nm增加到23 nm,团簇体尺寸从30-50 nm增加到60-100 nm,透光率从74.7%降到65.17%,禁带宽度范围为2. 83-2.94 eV.
