公开日 20080918
发明人 HAN N, XU L, SHIH H, ZHANG Y, LU D, SUN J Y
受让人 Applied Materials, Inc.
一种在工艺箱中能够暴露于等离子体中的元件，其结构中具有由含钇物质组成的电镀层。电镀层中可以含有氧化锆，或其上覆盖了一层氧化物。在一个实例中，含有第一物质的电镀层之上镀覆了由与第一种物质不同的第二物质构成的第二电镀层。电镀层可耐等离子体腐蚀。在另一个实例中，电镀层的界面中，随着厚度不同，含钇物质的第一浓度与第二物质的浓度呈梯度变化。含第一、第二金属浓度梯度的电镀层可通过改变第一、第二金属的电解质在镀液中的浓度来获得。
