摘要：采用电沉积方法在黄铜基底上制备纳米结构的 Ni-TiN复合薄膜。用扫描电镜(SEM)及透射电镜(TEM)对 其微观结构进行表征,利用X射线衍射(XRD)分析其平均晶粒尺寸,采用极化曲线及电化学阻抗谱(EIS)研究其腐 蚀行为。结果表明,电沉积的电流密度、TiN纳米粒子的浓度、搅拌速度、溶液温度及 pH值对电沉积薄膜形貌 的影响较大。制备的 Ni-TiNi电沉积薄膜的平均晶粒尺寸约为50 nm。纳米结构的 Ni-TiNi电沉积薄膜的耐腐蚀性 能远优于纯 Ni沉积薄膜的。
摘要：采用电沉积方法在黄铜基底上制备纳米结构的 Ni-TiN复合薄膜。用扫描电镜(SEM)及透射电镜(TEM)对 其微观结构进行表征,利用X射线衍射(XRD)分析其平均晶粒尺寸,采用极化曲线及电化学阻抗谱(EIS)研究其腐 蚀行为。结果表明,电沉积的电流密度、TiN纳米粒子的浓度、搅拌速度、溶液温度及 pH值对电沉积薄膜形貌 的影响较大。制备的 Ni-TiNi电沉积薄膜的平均晶粒尺寸约为50 nm。纳米结构的 Ni-TiNi电沉积薄膜的耐腐蚀性 能远优于纯 Ni沉积薄膜的。
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