等离子体增强膜沉积

公开日 20070102

发明人 HARTIG K

受让人 Cardinal CG Company

镀膜的方法及设备。在某些实例中给出了一个包括基体沉膜区域及电极清洗区域的沉积室。在这些实例中，电极置于沉积室中并具有一个内腔，其中放置第一和第二磁铁系统。在某些实例中给出了采用具有上述特性的沉积室进行膜沉积的方法。本发明还提供了用于膜沉积设备的电极装置。在某些实例中，电极部件由一个具有内腔的可旋转电极(其外表面可涂覆碳或类似物质)组成，其内腔中放置了静止不动且极性相反的第一和第二磁铁系统。