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Sn-Cu薄膜的沉积行为及其微观形貌分析

放大字体  缩小字体 发布日期:2012-11-13  浏览次数:588   关注:加关注
核心提示:摘要:利用电沉积法,在酸性镀液中制得 Sn-Cu薄膜,采用扫描电子显微镜(SEM)及能谱仪(EDS)研究镀液中主盐 浓度、电镀工艺条件及添

摘要:利用电沉积法,在酸性镀液中制得 Sn-Cu薄膜,采用扫描电子显微镜(SEM)及能谱仪(EDS)研究镀液中主盐 浓度、电镀工艺条件及添加剂对薄膜形貌的影响,并借助循环伏安曲线研究不同条件对 Sn-Cu沉积行为的影响。 研究结果表明:镀 液中主盐浓度的增大促进了Sn-Cu的还原沉积;添加剂的引入对金属离子具有较强的螯合作用,限制了镀液中自由金属离子的浓度,使得合金沉积电位负移;此外,镀液中Sn2+浓度变化对镀层晶粒粒度影响较大,改变 Cu2+浓度对镀层的平整度影响较大;电流密度增加、温度降低及加入添加剂,都能细化镀层晶粒。

   Sn-Cu薄膜的沉积行为及其微观形貌分析.pdf
 

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