IBS60-Ⅰ型离子束溅射镀膜机是近年出现的一种采用新型镀膜方法的设备。它是薄膜制备的先进设备之一。薄膜结构紧密、附着力强，目前大量应用于电子学、材料科学、光学、精密加工等领域的科研和生产中。用该机制备的软X射线多层膜周期准确、界面清楚。单反应室采用圆形结构，备有4个靶位，90°可随意转。单靶位面积110×90mm<’2>，衬底可装夹φ10～80mm被镀基片，采用(KAUFMAN)离子源。极限真空度2×10<’-4>Pa，工作真空度10<’-2>～10<’-4>Pa连续可调。离子流均匀性≤5%，连续工作100小时(1～数A/分)，电源稳定性相对变化量小于0.5%，离子枪工作电压0.1～1.6kV连续可调。引出棚直径φ60mm。
完成单位：中国科学院沈阳科学仪器研究中心 中国科学院长春光学机械研究所
邮政编码：110003
成果类别：应用技术
成果水平：国内先进
限制使用：国内
成果密级：非密
鉴定日期：19911127
应用行业：自然科学研究与试验发展 电子器件制造
转让方式：提供技术培训,出售产品
分类号：O484.1、TN305.92
