镀液中铜和EDTA的连续测定(EDTA滴定法)

在电子工业使用的中性氰化金铜合金镀液中，为改善镀层的性能和镀液的稳定性，使用EDTA盐 [Na₂ Cu (EDTA)₂ ]，其ρ(EDTA盐) 为：2~20 g /L。

㈠方法简介

由于镀液中，同时存在氰化物和EDTA盐，因而在以EDTA配位滴定法测定镀液中铜时，对镀液可用两种不同的处理方法：一种是采用过硫酸盐氧化的方法，消除氰离子的干扰，同时也已将EDTA保留，进行EDTA配位滴定法测定铜；另一种是将镀液中所含有的氰化物和EDTA已全部被分解、驱尽，随后再进行EDTA配位滴定法测定铜。通过这两者测定结果之差距，可计算出镀液中EDTA盐的质量浓度。

滴定时，Al³⁺、Fe³⁺ 离子的干扰，可在微碱性溶液用氟化钠和三乙醇胺联合掩蔽。

㈡　试剂

⑴三乙醇胺：（1＋1）。

⑵氨水：（1＋1）。

⑶NH₄HF₂：40 g/L。

⑷(NH₄)₂S₂O₈：150 g/L。

⑸PAN：1 g/L酒精溶液。

⑹EDTA 标准滴定溶液：0.05 mol/L。

㈢测定步骤

⑴ 在100 mL锥形瓶中，加入镀液1mL（V₁/mL）、150 g/L (NH₄)₂S₂O₈ 25 mL、加水50 mL、40 g/L的NH₄HF₂溶液4滴、（1＋1）三乙醇胺10滴、滴加氨水至Cu (NH₃) ₄^{2 +} 铜氨配位离子的蓝色出现，加4滴PAN指示剂，用0.05 mol/L EDTA 标准滴定溶液滴定，终点（V₂ / mL）由红色突变为绿色，当镀液中铜含量较少时，终点由红色突变为黄色。

⑵ 在100 mL锥形瓶中，加入镀液1 mL（V₁ / mL）、加水5 mL、（1＋1）盐酸10 mL，（1＋1）硝酸5 mL，加热至沸，直至驱尽氮氧化物黄烟后，冷却至室温。加水50 mL、40 g/L的NH₄HF₂溶液4滴、（1＋1）三乙醇胺10滴、滴加氨水至Cu (NH₃)₄^{2 +} 铜氨配位离子的蓝色出现，加4滴PAN指示剂，用0.05 mol/L EDTA 标准滴定溶液滴定，溶液由红色突变为绿色即为终点，记取读数(V₃ / mL)。当镀液中铜含量较少时，终点由红色突变为黄色。

㈣计算

式中 ρ_Cu— 镀液中Cu的质量浓度，g/L ；

ρ _EDTA铜盐— 镀液中[ Na₂Cu (EDTA)₂ ] 的质量浓度，g/L ；

c— EDTA 标准滴定溶液的浓度，mol/L ；

V₂ — 试液除氰后,EDTA 标准滴定溶液的滴定体积，mL ；

V₃ — 试液氧化分解EDTA后,EDTA 标准滴定溶液的滴定体积，mL ；

2 — Na₂Cu (EDTA)₂ 分子中，EDTA的配位数；

689.9— Na₂Cu (EDTA)₂的相对分子质量，1；

63.546 — 铜的相对原子质量，1；

V₁ — 镀液的体积，mL。