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印刷电路板掩膜孔铜加厚电镀工艺.pdf

放大字体  缩小字体 发布日期:2012-02-16  浏览次数:633   关注:加关注
核心提示:印刷电路板掩膜孔铜加厚电镀工艺

【专利号(申请号)】200810066943.9

【公开(公告)号】CN101304638

【申请人(专利权)】李东明

【申请日期】2008-4-30 0:00:00

【公开(公告)日】2008-11-12 0:00:00

【专利简介】

 

一种印刷电路板掩膜孔铜加厚电镀工艺,其工艺包括以下步骤:将已钻好导通孔等,并已使孔已电导通的印刷电路板的表面水分烘干;对印刷电路板表面涂覆绝缘层,并使其干燥;将涂覆绝缘层的印刷电路板电路板,计算出需电镀的孔的孔表面积,乘以要镀达到孔铜厚度的电镀密度及时间,计算出电镀孔铜需要的电流密度值;对印刷电路板的孔进行孔加厚电镀;将已进行孔加厚电镀的印刷电路板表面平整;对孔铜厚度已达到要求的印刷电路板进行清洁,转入图形工艺制作。本技术可提高电镀生产线的生产效率,降低印刷电路板生产中的铜资源、水资源,电能资源的消耗及减少化学药品使用量;易于精密线路的印刷电路板的制造。

   一种电镀生产设备中镀槽循环装置.pdf
 

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