氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究：结果与讨论（六）

【简介】

3．2合金箔的化学组成、表面形貌和微观结构

    根据上述讨论，确定了电沉积因瓦合金箔的最佳工艺参数为：Fe₂₊浓度0．15 mol／L，阴极旋转速率600～900 r／min，pH 2．5～3．0，温度45～55℃，电流密度18～25 A／dm²。在最佳工艺参数范围内进行多次电沉积，并从不锈钢电极表面脱膜，得到光亮、柔韧的合金箔，膜厚约20μm，含铁量稳定在62％～66％(质量分数)。随机选取样品，分别采用能谱仪、扫描电镜和x射线衍射仪分析合金箔的化学组成、表面形貌和微观结构，结果如图7～图9所示。

图7合金箔的外观及微观形貌

Figure 7 Appearance and microscopic morphology of alloy foil

图8合金箔的能谱图

Figure 8  Ener2y-dispersive spectrum of alloy foil

图9台金酒的X射线衍射圈

Figure 9 X-ray diffraction pattern of ahoy foil

图7是合金箔的表观及微观形貌图。从图7可以看出，合金箔光滑平整，晶粒细小均匀，结构致密，无孔洞。根据图8所示的能谱图，测得合金箔的组成为62．86％Fe和37．14％Ni，符合因瓦合金的组分要求，而且合金箔较纯净，只含有铁、镍元素。合金箔经过100～600。C真空热处理后不发脆，韧性非常好，反复对折而不断。从图9所示的XRD谱可知，合金箔中同时存在体心立方和面心立方结构，前者对应(110)晶面，而后者对应(111)和(200)晶面。其中(200)晶面的峰形较小且明显宽化，由此可知镀层晶粒极细，存在纳米级微晶结构。

氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究