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氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究:结论

放大字体  缩小字体 发布日期:2012-03-14  浏览次数:377   关注:加关注
核心提示:氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究:结论

【简介】

4   结论

 

    (1)在氟硼酸盐体系中,各工艺参数对电沉积因瓦合金镀层中铁含量的影响差异比较明显,尤其是阴极旋转速率,说明铁的电沉积受扩散的影响较大:而在实验条件范围内,阴极电流效率的变化幅度基本稳定在士4%。

 

(2)确定了制备因瓦合金箔的最佳工艺参数为: c(Fe2+)=015 molLv(阴极旋转)=600900 rmin PH=2530θ=4555Jk=1825 Adm2

 

(3)在最佳工艺条件下得到了平整光亮、致密、柔韧性好、含铁量为62%~66%的因瓦合金箔。

 

参考文献:

[1]  JILES D CRecent advances and future directions in magnetic materials[J] Acta Materialia200351(19)5907—5939

[2]  屠振密,安茂忠,张景双,等.电镀合金的应用及前景展望[J].电镀与精饰,200224(5)2632

[3]  《金属手册》编写委员会.金属手册(3)[M]4版.北京:机械工业出版社,1997

[4]  GRANDE W CTALBOT J BElectrodeposition of thin films of nickel—iron[J]Journal ofthe Electrochemical Society1993140(3)669—674

[5]  杨余芳,龚竹青,邓丽元,等.Ni—Fe合金电镀的研究进展们.电镀与涂饰,200524(5)23—27

[6]  李peng,刘天成,孙克,等.电沉积Fe-36Ni磁性合金工艺的研究[J]电镀与涂饰,200524(6)17—21

[7]  PARK Y BNano invar alloys and process for producing the sameUS20060037671A1[P]2006_02-23

[8]  张允诚,胡如南,向荣.电镀手册[M]3版.北京:国防工业出版社,2007

[9]   MARIKAR Y M FVASU K lElectrodeposition of the ternary ir01    cobalt-nickel alloy from the fluoborate bath--Part lDepositionanode    corrosionmechanism[J]Electrodeposition and Surface Treatment1 9742(4)281—294

[10]  MARIKAR Y M FVASU K lElectrodeposifion of the ternary iron-cobalt-nickel alloy from the fluoborate bath—_Pan IlStructure and properties of the deposits[J]Electrodeposition and Surface Treatment19742(4)295·302

[11]  迟玉中.电沉积Ni-Fe纳米合金工艺研究[J].化工之友,2006(2)3536

[12]  HARRIS T MCLAIR J StTesting the role of metal hydrolysis in the anomalous electrodeposition of Ni-Fe alloys[J]Journal of the Electrochemical Society1996143(12)3918-3922

[13]  GLASSTONE SSYMES T EThe electro-deposition of iron-nickel alloysPart I[J]Transactions ofthe Faraday Society192723213—226

[14]  GLASSTONE SSYMES T EThe electr0—deposition of iron-nickel alloysPart Il[J]Transactions ofthe Faraday Society192824370—378

[15]  罗北平,龚竹青,郑雅杰,等.因瓦合金箔电沉积的制备及其微观结构和耐蚀性[J].中南大学学报(自然科学版)200637(2)263268

[16]  AFSHAR ADOLATI A GGHORBANI MElectrochemical chametefization of the Ni-Fe alloy electrodeposition from chloride·-citrate·-glycolic acid solutions[J]Materials Chemistry and Physics200377(2)352—358

[17]  HORKANS JEffect of plating parameters on electrodeposited NiFe[J]Journal ofthe Electrochemical Society1981128(1)45-49

[18]  YIN K_MJAN S-LCurrent pulse plating ofnickel-iron alloys on rotating    disk electrodes[J]Surface and Coatings Technology199679(13)252-262

 

    [编辑:沮靖邦]

 

 

氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究

氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究:结果与讨论(二)

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