摘 要:研究了（Ni-W）-纳米Si3N4复合镀层的共沉积条件，考察了电流密度、温度和时间等操作条件对镀层沉积速率和显微硬度的影响。结果表明，随着电流密度提高，复合镀层的沉积速率和硬度不断增加，但当电流密度达到16A／dm^2，镀层的硬度下降；合适的镀液温度为75℃左右，沉积时间约60min。[著者文摘]
（Ni-W）-纳米Si3N4复合电镀工艺的研究.pdf
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