钒化合物稳定剂对锡电沉积过程的影响

摘　要:研究了Shiff碱型光亮剂的酸性镀锡体系中，钒化合物稳定剂对锡电沉积的电流效率和镀层外观及织构的影响，当稳定剂质量浓度为0.10g/L时，镀层的光亮范围向低电流端扩展，在2.5～5.0A/dm∧2电流密度范围内，电流效率及沉积速度都有所提高，镀导显示β-Sn（101）和（112）晶面的织构，但含钒稳定剂的镀液中得到的镀层，（101）晶面的织构系数降低而（112）晶面的织构系数增加。

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