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在三价铬Cl^1—SO^2—4体系中电沉积厚镀层的研究

放大字体  缩小字体 发布日期:2012-05-13  浏览次数:421   关注:加关注
核心提示:在三价铬Cl^1—SO^2—4体系中电沉积厚镀层的研究

摘 要:研究了在新型尿素氯化物硫酸盐混合物三价铬溶液中电镀铬的工艺条件对镀层的影响,详细考察了电流密度,PH值,络合剂浓度,恒电流/恒电位方式对电流效率和镀层外观质量的影响。结果表明:pH值在1.9-2.3之间,电流密度在7-11A/dm62范围内,络合剂浓度为2mol/L时获得的镀层能达到较大厚度和较高的电流效率,镀层光亮致密。

在三价铬Cl^1—SO^2—4体系中电沉积厚镀层的研究.pdf
 

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