摘要：利用化学镀铜工艺，以十二烷基苯磺酸钠(SDBS)作为镀液添加剂，在未经刻蚀的玻璃表面制备了纳米铜膜。采用FESEM、SEM和XRD等技术对铜膜表面、断面形貌及晶体结构进行了表征。结果表明，铜膜内团簇尺寸非常细小，晶粒尺寸约为15.5～28.3 nm，且存在较强的<111>织构。采用四探针法测量铜膜的电阻率，并讨论了电阻率随沉积时间增加而逐渐下降的原因。
摘要：利用化学镀铜工艺，以十二烷基苯磺酸钠(SDBS)作为镀液添加剂，在未经刻蚀的玻璃表面制备了纳米铜膜。采用FESEM、SEM和XRD等技术对铜膜表面、断面形貌及晶体结构进行了表征。结果表明，铜膜内团簇尺寸非常细小，晶粒尺寸约为15.5～28.3 nm，且存在较强的<111>织构。采用四探针法测量铜膜的电阻率，并讨论了电阻率随沉积时间增加而逐渐下降的原因。
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
豫公网安备41010502006893号
