电沉积金属Ni涂层的高温腐蚀性能

摘要：通过调控电沉积过程中的阴极电流密度制备具有不同晶粒尺寸和择优取向的Ni镀层。采用透射电镜(TEM)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDs)和X射线衍射仪(XRD)对高温腐蚀前、后不同Ni镀层进行检测分析，对比研究不同Ni镀层经过960℃的78.07％Na3AlF6-9.5％AlF3-5％CaF₂(质量分数)熔盐气氛腐蚀后的结构、成分和形貌。结果表明：在高电流密度下易获得晶粒细小，平均晶粒尺寸为120 nm，具有较强(1005择优取向的Ni镀层；而在低电流密度下所得的Ni镀层晶粒较粗大，平均晶粒尺寸为925 nm，具有较弱的(111)择优取向。在腐蚀气氛下，低电流密度下所得的Ni镀层在高温腐蚀后有利于生成晶粒粗大、且具有完整“八面体”结构的NiAl₂O₄尖晶石相；而高电流密度下所得Ni镀层表层腐蚀层的晶粒细小，且主要为NiO相。

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