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EDTA在化学镀铜中的应用

放大字体  缩小字体 发布日期:2015-03-05  来源:中国电镀网  浏览次数:3598   关注:加关注

2.4温度对镀层厚度的影响

图5所示固定镀铜液组成为最佳组成,pH=8.3,t为40min时,温度对镀层厚度的影响。从图5中可以看出,随着温度升高,镀层厚度呈上升趋势,当θ为65℃时,镀层厚度最大,继续升高温度,由于金属粒子的热运动加剧,不利于金属粒子的沉积,导致部分粒子从镀层脱落,故化学镀铜最佳θ为65℃。

2.5时间对镀铜厚度的影响

以镀铜液组成为最佳组成,调节pH=8.3,θ为65℃,在不同时间测得镀层厚度如图6所示。从图6中可以看出,随着镀铜时间的增加镀层厚度呈上升趋势,当镀铜t为40min时,厚度达到最大,再延长镀铜时间,厚度增大不明显,当达到40min时镀铜液与镀层已经达到了沉积和解析平衡状态,再延长镀铜时间镀层厚度基本不变,故最佳镀铜t为40min。

2.6镀件表面形貌分析和镀层纯度的检测

镀铜层的表面形貌分析如图7所示。

从图7中可以看出,镀件表面光滑无凹凸现象,亦无发泡痕迹,说明镀件表面光亮度好,镀层均一。将铸铁试样表面的铜层剥落后,用原子吸收法测得铜的质量分数为99.93%。

3·结论

应用EDTA对Cu2+配位,形成[CuY]2-,以解离出高纯度和低浓度的Cu2+进行化学镀铜。确定了镀铜液的组成为7.5g/LCuSO4·5H2O,20g/LEDTA,38g/L次磷酸钠,37g/L四硼酸钠,15g/L柠檬酸三钠,0.5g/L硫酸镍,0.2mg/L硫脲,0.05g/LO-20(脂肪醇聚氧乙烯醚),选择了化学镀铜的最佳工艺条件θ为65℃,pH=8.3,t为40min,显著提高了镀铜层的质量,且对环境污染小,操作简便,为铸铁件化学镀铜提供了一种行之有效的方法。

参考文献

[1]霍栓成.镀铜[M].北京:化学工业出版社,2007:57-59.

[2]马立涛,郭忠诚,朱晓云,等.化学镀铜原理、应用及研究展望[J].南方金属,2009,(2):21-23.

[3]刘存海,艾启俊,唐新保.铸铁表面快速镀铜技术的研究[J].工业技术经济,1995,14(3):71-72.

[4]姜晓霞,沈伟.化学镀理论及实践[M].北京:国防工业出版社,2000:33-34.

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关键词: EDTA 化学镀铜
 
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